日前，北方華創微電子研制的8英寸立式氧化爐中標國內8英寸集成電路特色工藝線項目，獲得批量訂單，用于產品的高溫氧化工藝制程。
近年來，北方華創的12英寸立式氧化爐設備，在技術研發團隊持續攻關，以及與中芯國際等用戶的緊密合作下，陸續通過了90/65/45/28nm技術代集成電路生產線的工藝驗證，實現產線應用。隨著國內8英寸產線的建設與擴產，8英寸設備的需求釋放。北方華創利用多年12英寸立式爐的技術積累及客戶需求，針對性開發出了全新的8英寸立式高溫氧化爐。該產品基于同一套經過量產驗證的高穩定性、高可靠核心控制系統架構，采用了高精度先進溫度場控制算法和控制系統以及成熟的自主知識產權軟件平臺，適用于8英寸90nm及以上技術代的干氧氧化、濕氧氧化和高溫退火等工藝。
當前，北方華創已經具備8英寸半導體設備系列產品的市場供應能力，產品包括多晶硅刻蝕機、高深寬比硅刻蝕機、氧化硅刻蝕機、金屬刻蝕機、PECVD、LPCVD、立式氧化爐、臥式擴散爐、單片清洗機及全自動槽式清洗機等工藝設備。
