
發布時間:2019-03-25 15:44
“2019集成電路產業鏈協同創新發展交流會暨集成電路產業技術創新聯盟大會”于2月23日召開。會上,集成電路產業技術創新聯盟組織頒發了第二屆集成電路產業技術創新獎,對在產業技術創新、成果產業化推進、產業鏈合作等方面取得突出成績的團隊和個人進行了表彰。
北方華創榮獲三項獎勵:公司副董事長耿錦啟榮獲“產業創新突出貢獻獎”;12英寸雙脈沖刻蝕機NMC612D開發團隊被授予“技術創新獎”;創硅外延CVD設備研發團隊被授予“成果產業化獎”。
北方華創副董事長耿錦啟,始終堅持自主創新的企業發展戰略,并把國際化高端人才引進視作企業可持續發展的根基。他率領的團隊完成了多項集成電路裝備產品產業化,也拉動了國產零部件產業鏈的快速發展。
12英寸雙脈沖刻蝕機NMC612D產品開發團隊,在產品研發過程中突破了脈沖射頻等多項關鍵技術,這項技術適用于14納米到10納米技術代,廣泛應用于FinFET以及3D NAND和DRAM等多種硅刻蝕工藝。目前,NMC612D刻蝕機已在芯片產線實現量產應用。
硅外延CVD設備研發團隊,自2012年成立以來,成功開發了多片式和單片式兩款硅外延CVD設備,突破了硅外延高溫加熱控制、氣流場控制等多項關鍵技術,申請專利七十余項。目前,北方華創已為多家硅外延企業批量提供成熟的硅外延設備和工藝技術,得到行業客戶的廣泛認可和好評。